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俄罗斯扩大招了?自研EUV光刻机112nm光源比ASML更先进

来源:开云体网官网    发布时间:2025-02-24 10:19:15

  而光刻工艺下,最重要的设备便是光刻机,而光刻机与芯片制程,也是一一对应的。

  现在最先进的是EUV光刻机,选用13.5nm波长的光源,能够制作7nm及以下的芯片。

  而EUV光刻机,全球仅ASML一家能制作出来,其它一切厂商,都无法制作。而ASML又听话,不能将EUV光刻机卖给我国、俄罗斯这样的国家。

  所以说,是ASML卡住了一切想进入7nm以下工艺的晶圆的脖子,包含我国晶圆厂,也包含俄罗斯的晶圆厂。

  所以一直以来,许多的企业,都在研制光刻机,特别是EUV光刻机,或许绕开EUV光刻机,找到别的的,能进入7nm工艺以下的道路。

  佳能选用的是NIL纳米压印技能,但其缺陷许多,比方产能很低,无法大规模量产芯片。

  而俄罗斯,之有也表明要用X射线来研制这样的光刻机,但事实上,俄罗斯也扣头想一想,使用X射线nm以下芯片的光线,精度达不到。

  而近来,有新闻媒体报道称,兜兜转转几年之后,俄罗斯觉得X射频不可,仍是要选用EUV计划才行,要研制EUV光刻机

  不过ASML现在的EUV计划,俄罗斯必定完成不了,用激光来炮击锡珠,最终发生极紫外线,这个俄罗斯也办不到,终究许多供应链现已被ASML绑定了,所以只能另辟蹊径。

  俄罗斯计划选用11.2nm的镭射光源,比ASML的13.5nm波长更短,那么理论上精度会更高,更为先进。

  而怎么发生11.2nm波长的光源?俄罗斯的做法是利氙(xenon)基镭射光源,说是这样比ASML 的EUV体系更经济。

  不过,说实话,吹嘘咱们仍是会的,俄罗斯能不能做出来,许多人仍是有疑问的,终究现在俄罗斯连90nm的光刻机都制作不出来,一步就想登天到EUV,怎么可能?

  所以外界猜想,就算俄罗斯真的有这计划,那至少需求上十年的时刻来研制,还要花费巨资,而俄罗斯显着没这个实力和才能,所以扣头吹嘘罢了。

  不过,假设这个计划是可行的,俄罗斯研制不出来,咱们未必研制不出来啊,但问题这个计划终究行不可,谁也不清楚。

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